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    • 密閉制冷加熱設備-40℃~200℃拖二配套原理

      應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。密閉制冷加熱設備-40℃~200℃拖二配套原理

      更新時間:2023-05-17

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    • 制冷加熱設備-40℃~200℃拖二配套原理

      應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱設備-40℃~200℃拖二配套原理

      更新時間:2023-05-16

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    • 高低溫體機-40℃~200℃拖二配套原理

      應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫體機-40℃~200℃拖二配套原理

      更新時間:2023-05-16

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    • 高低溫冷卻循環器-40℃~200℃拖二

      應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫冷卻循環器-40℃~200℃拖二

      更新時間:2022-02-25

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    • 制冷加熱循環裝置-40℃~200℃(拖二系統)

      應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱循環裝置-40℃~200℃(拖二系統)

      更新時間:2023-03-01

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    • 反應釜控溫系統-40℃ ~ 200℃(拖二系統)

      應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。反應釜控溫系統-40℃ ~ 200℃(拖二系統)

      更新時間:2023-03-01

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